產品中心
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APC/R2R
先進製程管理系統
產品概覽
APC應運而生針對半導體產業關鍵尺寸不斷縮小、集成度不斷提高及晶原尺寸不斷擴大的產業現況
改善與加強產品良率、Rework 次數以及有效產能
製程品質和產能間達到“雙贏”
智能工具與豐富應用場景
功能特點
- 01—降低pilot wafer用量—
藉由準確feedback，可以在最短時間內使輸出值接近目標值，可以大幅減少 pilot wafer 的使用
- 02— 改善產品Cpk —
APC可以使產品有效控制在目標值附近，保證產品質量
- 03— 減少OOS發生率 —
將可能影響因子完整考量到算法中，能有效降低outliner的發生
- 04— 減少MO發生率 —
經由完整系統運作，可以大幅減少需要人員操作的機會，並加上系統中對於補償值的卡控從而減少MO的發生
優勢效果
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虛擬量測
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設備健康度監控
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圖像缺陷診斷
頁
面
引
導
